Construcción y uso de un sistema PECVD para el crecimiento y posterior caracterización de películas de Si nanoestructurado

Construcción de una cámara PECVD para el crecimiento y posterior caracterización de películas delgadas polimorfas nanoestructuradas de silicio con diferente resistividad y tipo de conductividad así como el estudio básico de sus propiedades electrónicas, electroquímicas y ópticas